В России создадут первый промышленный электронный микроскоп для производства чипов — он заменит установки Hitachi

Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) займется разработкой первого в России промышленного сканирующего электронного микроскопа класса CD-SEM, предназначенного для контроля производства микросхем. Как сообщает CNews, Минпромторг уже заключил с центром контракт стоимостью 2,37 млрд рублей. Работы будут вестись в рамках опытно-конструкторской разработки «Инспектор» и должны завершиться к 30 июня 2030 года.

Изображение сгенерировано Grok

Будущий CD-SEM предназначен для неразрушающего контроля полупроводниковых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм. Первый опытный образец будет рассчитан на работу с 200-миллиметровыми пластинами — именно такой формат сегодня широко используется на предприятиях, выпускающих микросхемы по зрелым технологическим нормам.

Главная задача установки — высокоточное измерение критически важных параметров чипов. Микроскоп сможет контролировать ширину проводников, размеры контактных отверстий, расстояние между элементами схемы и шероховатость краев линий. Именно от этих характеристик напрямую зависят качество, стабильность и выход годной продукции при производстве микросхем.

Проект призван заменить японские электронные микроскопы Hitachi CD-SEM S-9380 и CG4000, поставки которых в Россию прекратились после введения санкций. По данным CNews, отечественных промышленных аналогов такого оборудования сегодня не существует.

Согласно техническому заданию, практически все ключевые узлы нового комплекса — электронная пушка, электронно-оптической колонны, рабочая камера, вакуумная система, механизм загрузки пластин, центральный контроллер и ПО — должны быть российской разработки. Использование зарубежных компонентов допускается лишь в исключительных случаях и только после согласования с заказчиком. Согласно требованиям контракта, средняя наработка на отказ должна составлять не менее 1000 часов, а расчетный срок службы оборудования — не менее десяти лет.

У ЗНТЦ уже есть опыт разработки подобного оборудования. Ранее центр представил отечественный литограф с разрешением 350 нм, а также создал установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нм. Сейчас два опытных образца этой системы проходят испытания.

©  iXBT