Китай научился делать чипы на уровне 5 нм без EUV-литографии

Шанхайский стартап Yuanjiwei запустил первую в мире восьмидюймовую производственную линию для выпуска 2D-чипов, пишет South China Morning Post со ссылкой на сообщение компании в WeChat.

Строго говоря, цех с литографами, установками плазмохимического травления и прочим оборудованием для производства передовой микроэлектроники работает с января. По завершении отладки приборов и отработки техпроцессов 9 июля прошла официальная церемония открытия.

Благодаря использованию двумерных полупроводников и их грамотной трехмерной компоновке по производительности к 2029 году выпускаемая предприятием продукция будет соответствовать самым передовым 5 нм чипам. При этом разработчики умудрились обойтись без EUV-литографии (экстремальный ультрафиолет) — поставки таких литографов в КНР запрещены санкциями — за счет многократного экспонирования в DUV-диапазоне (длина волны 193 нм).

В конечном счете переходить на двумерные полупроводники, так или иначе, придется всему миру независимо от санкций, поскольку микроминиатюризация чипов, изготовленных по традиционным технологиям, неуклонно подходит к своему физическому пределу.

До конца года компания намерена отработать на новой линии техпроцесс, эквивалентный кремниевому 90-нм узлу, чтобы перейти от лабораторного «ручного» изготовления приборов к промышленному проектированию по стандартам.

Что касается приложения новых чипов — основной упор будет сделан на DRAM, и не только из-за ее дефицита. Сверхнизкие токи утечки в двумерных полупроводниках позволяют резко снизить энергопотребление при обновлении ячеек, что открывает путь к их широкому внедрению в периферийных устройствах и системах с высокой вычислительной мощностью, а в перспективе — с помощью трехмерной вертикальной сборки — и к наращиванию емкости DRAM. Кроме того, двумерные полупроводники дают уникальные преимущества в высокочастотных аналоговых схемах, устойчивых к радиации устройствах связи и нейроинтерфейсах. Платформа также будет обслуживать разработку и производство приборов для оптоэлектронного зондирования и квантовых вычислений.

В тот же день «Юаньцзивэй» объявил о старте контрактного производства и выпуске первой версии технологической библиотеки PDK для 500 нм процесса. Выход годных схем емкостью до 100 тысяч транзисторов обещают на уровне, превышающем 99,99%.

Создан первый монолитный 3D-чип для серийного производства

Как делают чипы и где их предел в нанометрах

Подписывайтесь и читайте «Науку» в MAX