Россия всерьез берется за чипы: на разработку и запуск производства материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии выделено почти 2 млрд рублей

Минпромторг в рамках двух конкурсов выделил в общей сложности почти 2 млрд рублей на разработку и запуск производства материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии, используемых при изготовлении микроэлектроники и СВЧ-компонентов.

Изображение сгенерировано Grok

Первый конкурс стоимостью 1,017 млрд рублей предусматривает создание материалов для электронно-лучевой литографии, в рамках второго на 889,5 млн рублей планируется разработка материалов для взрывной литографии. Завершить работы должны до ноября 2029 года.

В рамках проекта «СВЧ Резист-1» предполагается создать 12 видов электронно-лучевых резистов, которые должны стать аналогами продукции немецких компаний Allresist и Microresist, японской ZEON и американской MicroChem. Для проекта «СВЧ Резист-2» запланирована разработка семи типов материалов, заменяющих американские резисты серий LOR и PMGI.

Как отмечается в документации, сейчас в России отсутствует собственное производство подобных материалов, а ранее потребности науки и промышленности закрывались за счет поставок из зарубежных стран.

Электронно-лучевая литография применяется для создания сверхточных структур с разрешением до единиц нанометров и используется в разработке микросхем и фотошаблонов. Взрывная литография применяется для формирования металлических структур в микроэлектронике и востребована в производстве СВЧ- и силовой электроники.

Новые тендеры стали продолжением программы импортозамещения материалов для микроэлектроники. Ранее Минпромторг уже выделял средства на разработку фоторезистов, специальных газов и химических материалов, необходимых для производства интегральных схем и полупроводниковых компонентов.

©  iXBT